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氟化锂

LiF

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分类：

薄膜衬底

I - L

关键词：

氟化锂

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产品描述

本事业部采用提拉法生长高质量的氟化锂，氟化锂晶体的透过率范围在从真空紫外105nm到红外的6.0μm，是真空紫外去透过率最好的材料。这种晶体被广泛的用来制造紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件。此外，该晶体也可以被用作X涉嫌探测器晶体。较低的折射率使得该晶体在没有防反射镀膜的情况下直接使用。作为窗口材料，氟化锂晶体是一种优良的消色差和复色差材料，被广泛应用于光学仪器中的紫外、红外透射窗口透镜和棱镜。

主要性能参数
透射范围	0.105 --- 6µm
折射率	1.37327 @2.5 µm; 1.624 @0.121 µm
反射损失	4.4% @4.0 µm
密度	2.63905 g/cm³
熔点	870°C; 848°C
热导率	11.3 W/(m·K) @41°C
比热	1562 J/(kg·K)
热膨胀	37 · 10^-6 /°C @0°---100°C
硬度 (Mohs)	102-113 (Indenter load: 600g)
杨氏模量	64.79 GPa
剪切模量	55.14 GPa
体模量	62.03 GPa
断裂模量	10.8 MPa
弹性系数	C₁₁ = 112; C₁₂ = 45.6; C₄₄ = 63.2 GPa